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    蔺增

    • Professor
      Supervisor of Doctorate Candidates
      Supervisor of Master's Candidates
    • Name (Pinyin):linzeng
    • E-Mail:
    • Date of Employment:2004-10-01
    • Administrative Position:教授、博导
    • Education Level:With Certificate of Graduation for Doctorate Study
    • Business Address:东北大学机械工程与自动化学院
    • Gender:Male
    • Contact Information:
    • Status:Employed
    • 山东省泰山产业领军人才
    • 沈阳市高层次人才——领军人才
    • “真空”(真空工程领域核心学术期刊)编委
    • 《中国表面工程》(SCI、EI检索刊源)编委
    • 沈阳市真空镀膜工程技术研究中心主任
    • 辽宁省光学薄膜专业技术创新平台副主任

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    1、半导体薄膜工艺前沿
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    • 开高端半导体薄膜沉积工艺: 研究先进PVD(溅射、电弧、离子镀)、CVD工艺。研究等离子体与材料表面的相互作用、薄膜生长机理、界面调控等问题。

      薄膜性能精准调控:通过工艺参数的精确控制,实现薄膜应力、显微结构、成分的精准调控,以满足特定电学、光学、力学性能要求。

      新型薄膜材料开发: 探索用于半导体器件的薄膜材料的制备工艺。


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        图1 PECVD反应腔体剖面示意图