蔺增
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开高端半导体薄膜沉积工艺: 研究先进PVD(溅射、电弧、离子镀)、CVD工艺。研究等离子体与材料表面的相互作用、薄膜生长机理、界面调控等问题。
薄膜性能精准调控:通过工艺参数的精确控制,实现薄膜应力、显微结构、成分的精准调控,以满足特定电学、光学、力学性能要求。
新型薄膜材料开发: 探索用于半导体器件的薄膜材料的制备工艺。
图1 PECVD反应腔体剖面示意图