开高端半导体薄膜沉积工艺： 研究先进PVD（溅射、电弧、离子镀）、CVD工艺。研究等离子体与材料表面的相互作用、薄膜生长机理、界面调控等问题。

薄膜性能精准调控：通过工艺参数的精确控制，实现薄膜应力、显微结构、成分的精准调控，以满足特定电学、光学、力学性能要求。

新型薄膜材料开发： 探索用于半导体器件的薄膜材料的制备工艺。

  图1 PECVD反应腔体剖面示意图